MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) 金屬氧化半導體場效電晶體 |
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2003年3月13日 |
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是FET主要形式之一。是在源極(Source)區與洩極(Drain)區的半導體基板表面覆蓋在一層薄薄的二氧化矽(SiO2)作為絕緣層,再把金屬沈積在氧化層上形成元件的閘極(Gate)而製成。MOSFET又可分為兩種:增強式(Enhancement)與空乏式(Depletion)。增強型(Enhancement,簡稱EMOS),是在MOSFET元件中增加通道載子,加強通道(洩極與源極之間的導通路徑)的傳導性。空乏型(Depletion,簡稱DMOS),則是在MOSFET元件中減少通道載子,降低通道的傳導性。
做為開關控制時,欲導通開關必須使加於閘-源及之偏壓大於其臨界值(Threshold Value)VGS>Vth且需持才能使洩極電流ID導通,而臨界電壓Vth大小主要由二氧化矽層厚度決定。 MOSFET導通電阻rDS(on)隨其耐壓容量之增加而增加,其關係可以表示為
功率型金屬氧化層場效電晶體(Power Metal Oxide Semiconductor Field Transistor ﹐Power MOSFET)是一種多載子導電的單極型電壓控制元件,它具以下特點: 開關速度快、高頻率性能好,輸入阻抗高、 驅動功率小、熱穩定性優良、無二次擊穿問題、 全工作區寬、工作線性度高等等,其最重要的優點就是能夠減少體積大小與重量,提供給設計者一種高速度、高功率、高電壓、與高增益的元件。在各類中小功率開關電路中應用極為廣泛。 MOSFET的電路符號及v-i特性曲線如下,此為N通道的MOSFET,當然亦有P通道的MOSFET,其電路符號中的箭頭方向剛好與N通道相反。MOSFET和BJT最大不同在於其為多數載子半導體元件,而BJT為少數載子半導體元件。 基本結構 Power MOSFET是一種功率集成元件,它由成千上萬個小型MOSFET並聯而成。下圖所示為N通道(N-channel)MOSFET的單元結構剖面示意圖。 圖中 *兩個n+ 分別作為該元件的源極(Source)和汲極(Drain),分別引出源極(Source)和汲極(Drain) *夾在n+(n-)區間的P區隔著一層SiO2的介質作為閘極(Gate) Gate和兩個n+區和P區均為絕緣結構,因此MOS結構的FET又稱絕源閘極場效電晶體(insulation gate field effect transistor)。 由圖可知﹐功率型場效電晶體的基本結構仍為n+(n-)pn+ 形式﹐其中參雜較輕的n-區為漂移區﹐用以提高元件的耐壓能力。在這種元件中﹐汲極(drain)源極(source)之間有兩個背靠背的PN接面存在﹐在閘極(Gate)未加電壓信號之前﹐無論drain與source之間加正電壓或負電壓﹐該元件總處於阻斷狀態(off)。為使drain與source之間流過可控的電流﹐必須具備可控的導電通道(channel length)才能實現。 MOSFET靜態操作點的特性 MOSFET的輸出特性曲線有兩各顯著的操作區域,稱為”恆定電流阻區”與”恆定電流區”,當drain至source電壓增加時,drain電流亦會成比例地增加,直到drain至source電壓達到夾止(pinch off)電壓時,drain電流才會保持恆定之值。 當功率型MOSFET被當作開關做作用時,drain與source之間的電壓降會正比於drain電流;這也就是功率型MOSFET工作於恆定電阻區(constant resistance region),且其動作狀態基本上就是一個電阻性元件,因此,功率型MOSFET在處於ON狀態時的電阻值RDS,on,此值乃為最重要的參數值,因在所給drain電流情況下,可決定其功率之損失大小。Drain電流開始產生是在臨界閘電壓(threshold gate voltage)供給以後,通常此電壓值是介於2V到4V之間。超過此臨界閘電壓後,Drain電流和Gate電壓之間的關係幾乎是相等的。 互導(transconductance) gfs 就可定義為Drain 電流對Gate電壓的變化率。 MOSFET的安全操作區(Safe Operating Area (SOA)) MOSFET提供了一個非常穩定的SOA,因為MOSFET再順向偏壓時,不需苦於二次崩潰所產生的效應,此直流與脈波的SOA優於BJT。逆偏期間的二次崩潰是不存在於功率型MOSFET中,要將MOSFET處於OFF狀態時,只需將Gate電壓轉換至0V即可。 MOSFET的直流與脈波SOA曲線(實線所示)。圖中亦示有等效的BJT SOA曲線。由圖中得知MOSFET元件的SOA特性曲線比較好 |